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当前位置：首页 >> 技术支持此胶的基本组成有：明胶或
PVA(
成膜剂
)
、丙烯酰胺和
N
，
N
′亚甲基双丙烯酰胺
(
交联
剂
)
、柠蒙酸铁铵
(
感光剂
)
及十二烷基磺酸钠
(
分散剂
)
。
明胶中的三价铁盐曝光后，会与曝光量成比例发生成亚铁离子。这时将感光了的膜层浸入引发剂
(H-2
O-2)
中，亚铁离子分解过氧化氢，产生羟自由基：
Fe+=H2O2[FY](Fe-HO)2++
·
OH
·
OH
会引发丙烯酰胺聚合，但这种聚合得到的仅是线型聚合物，不能获得优质的图像，
N
，
N
′亚甲基
双丙烯酰胺的加入，能与前者一起共聚而发生交联，成为体型结构，提高了版膜的耐抗性。在自由基引发
的聚合中，还包括着与明胶的接枝聚合。
此胶的性能稳定，便于制成已敏化干膜。由于硬化深度与曝光量成比例，适合于做转移
(
即间接
)
版膜
此胶的基本组成有：明胶或
PVA(
成膜剂
)
、丙烯酰胺和
N
，
N
′亚甲基双丙烯酰胺
(
交联
剂
)
、柠蒙酸铁铵
(
感光剂
)
及十二烷基磺酸钠
(
分散剂
)
。
明胶中的三价铁盐曝光后，会与曝光量成比例发生成亚铁离子。这时将感光了的膜层浸入引发剂
(H-2
O-2)
中，亚铁离子分解过氧化氢，产生羟自由基：
Fe+=H2O2[FY](Fe-HO)2++
·
OH
·
OH
会引发丙烯酰胺聚合，但这种聚合得到的仅是线型聚合物，不能获得优质的图像，
N
，
N
′亚甲基
双丙烯酰胺的加入，能与前者一起共聚而发生交联，成为体型结构，提高了版膜的耐抗性。在自由基引发
的聚合中，还包括着与明胶的接枝聚合。
此胶的性能稳定，便于制成已敏化干膜。由于硬化深度与曝光量成比例，适合于做转移
(
即间接
)
版膜
此胶的基本组成有：明胶或
PVA(
成膜剂
)
、丙烯酰胺和
N
，
N
′亚甲基双丙烯酰胺
(
交联
剂
)
、柠蒙酸铁铵
(
感光剂
)
及十二烷基磺酸钠
(
分散剂
)
。
明胶中的三价铁盐曝光后，会与曝光量成比例发生成亚铁离子。这时将感光了的膜层浸入引发剂
(H-2
O-2)
中，亚铁离子分解过氧化氢，产生羟自由基：
Fe+=H2O2[FY](Fe-HO)2++
·
OH
·
OH
会引发丙烯酰胺聚合，但这种聚合得到的仅是线型聚合物，不能获得优质的图像，
N
，
N
′亚甲基
双丙烯酰胺的加入，能与前者一起共聚而发生交联，成为体型结构，提高了版膜的耐抗性。在自由基引发
的聚合中，还包括着与明胶的接枝聚合。
此胶的性能稳定，便于制成已敏化干膜。由于硬化深度与曝光量成比例，适合于做转移
(
即间接
)
版膜
此胶的基本组成有：明胶或
PVA(
成膜剂
)
、丙烯酰胺和
N
，
N
′亚甲基双丙烯酰胺
(
交联
剂
)
、柠蒙酸铁铵
(
感光剂
)
及十二烷基磺酸钠
(
分散剂
)
。
明胶中的三价铁盐曝光后，会与曝光量成比例发生成亚铁离子。这时将感光了的膜层浸入引发剂
(H-2
O-2)
中，亚铁离子分解过氧化氢，产生羟自由基：
Fe+=H2O2[FY](Fe-HO)2++
·
OH
·
OH
会引发丙烯酰胺聚合，但这种聚合得到的仅是线型聚合物，不能获得优质的图像，
N
，
N
′亚甲基
双丙烯酰胺的加入，能与前者一起共聚而发生交联，成为体型结构，提高了版膜的耐抗性。在自由基引发
的聚合中，还包括着与明胶的接枝聚合。
此胶的性能稳定，便于制成已敏化干膜。由于硬化深度与曝光量成比例，适合于做转移
(
即间接
)
版膜
此胶的基本组成有：明胶或
PVA(
成膜剂
)
、丙烯酰胺和
N
，
N
′亚甲基双丙烯酰胺
(
交联
剂
)
、柠蒙酸铁铵
(
感光剂
)
及十二烷基磺酸钠
(
分散剂
)
。
明胶中的三价铁盐曝光后，会与曝光量成比例发生成亚铁离子。这时将感光了的膜层浸入引发剂
(H-2
O-2)
中，亚铁离子分解过氧化氢，产生羟自由基：
Fe+=H2O2[FY](Fe-HO)2++
·
OH
·
OH
会引发丙烯酰胺聚合，但这种聚合得到的仅是线型聚合物，不能获得优质的图像，
N
，
N
′亚甲基
双丙烯酰胺的加入，能与前者一起共聚而发生交联，成为体型结构，提高了版膜的耐抗性。在自由基引发
的聚合中，还包括着与明胶的接枝聚合。
此胶的性能稳定，便于制成已敏化干膜。由于硬化深度与曝光量成比例，适合于做转移
(
即间接
)
版膜
此胶的基本组成有：明胶或PVA(成膜剂)、丙烯酰胺和N，N′亚甲基双丙烯酰胺(交联剂)、柠蒙酸铁铵(感光剂)及十二烷基磺酸钠(分散剂)。
明胶中的三价铁盐曝光后，会与曝光量成比例发生成亚铁离子。这时将感光了的膜层浸入引发剂(H-2O-2)中，亚铁离子分解过氧化氢，产生羟自由基： Fe+=H2O2[FY](Fe-HO)2++·OH
·OH会引发丙烯酰胺聚合，但这种聚合得到的仅是线型聚合物，不能获得优质的图像，N，N′亚甲基双丙烯酰胺的加入，能与前者一起共聚而发生交联，成为体型结构，提高了版膜的耐抗性。在自由基引发的聚合中，还包括着与明胶的接枝聚合。
此胶的性能稳定，便于制成已敏化干膜。由于硬化深度与曝光量成比例，适合于做转移(即间接)版膜
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